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資料3 非密封放射性同位元素を用いた医療機器及び医薬品等の使用の場所の例外の追加について (3 ページ)
出典
公開元URL | https://www.mhlw.go.jp/stf/shingi2/0000211244_00005.html |
出典情報 | 医療放射線の適正管理に関する検討会(第3回 9/26)《厚生労働省》 |
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使用の場所等の制限の例外に係る追加的な規制内容について
○ 使用場所等の制限について例外的な取扱を認める要件や必要な措置に関しては厚生労働科学研究費
補助金 地域医療基盤開発推進研究事業等においてエビデンスの収集等を行い、厚生労働省医政局長通
知(※)に反映している。
※
病院又は診療所における診療用放射線の取扱いについて
(平成31年3月15日付け医政発0315第4号厚生労働省医政局長通知)から一部抜粋
第4 管理義務に関する事項
1 使用の場所等の制限(医療法施行規則第30条の14)
(11)診療用放射性同位元素を手術室等において一時的に使用することについて
診療用放射性同位元素を手術室において一時的に使用する又は「集中強化治療室若しくは心疾患強化治療室において一時的に使用する」
とは、手術室等における医学的な管理が必要とされる患者に対して、診療用放射性同位元素の一時的な使用が必要かつやむを得ない場合
に限定され、手術室等において管理する必要のない患者に対して使用することは認められないこと。
また、「適切な防護措置及び汚染防止措置」の内容は、概ね次に掲げるとおりであること。
ア 使用時は、汚染検査に必要な放射線測定器を備え、使用後は、スミア法等の適切な方法を用いて、汚染の有無を確認すること。また、測定
結果は記録すること。
イ 使用時は、汚染除去に必要な器材及び薬剤を備えること。また、測定により汚染が確認された場合は、汚染除去等を行うこと。
ウ
手術室等で診療用放射性同位元素により汚染されるおそれのある場所の壁、床面は、気体及び液体が浸透しにくく、平滑で腐食しにくい構
造であること。
エ 他の患者が被ばくする放射線の線量が1週間につき100マイクロシーベルト以下になるような措置を講ずること。
オ
診療用放射性同位元素使用室を有すること。また、使用する診療用放射性同位元素の準備及び使用後の汚染物の処理は、診療用放射性同位
元素使用室で行うこと。
カ
手術室等において診療用放射性同位元素を使用する場合、放射線防護に関する専門知識を有する医師、歯科医師又は診療放射線技師等の中
から管理責任者を選任すること。また、手術室等における管理体制を明確にする組織図を作成すること。
(後略)
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○ 使用場所等の制限について例外的な取扱を認める要件や必要な措置に関しては厚生労働科学研究費
補助金 地域医療基盤開発推進研究事業等においてエビデンスの収集等を行い、厚生労働省医政局長通
知(※)に反映している。
※
病院又は診療所における診療用放射線の取扱いについて
(平成31年3月15日付け医政発0315第4号厚生労働省医政局長通知)から一部抜粋
第4 管理義務に関する事項
1 使用の場所等の制限(医療法施行規則第30条の14)
(11)診療用放射性同位元素を手術室等において一時的に使用することについて
診療用放射性同位元素を手術室において一時的に使用する又は「集中強化治療室若しくは心疾患強化治療室において一時的に使用する」
とは、手術室等における医学的な管理が必要とされる患者に対して、診療用放射性同位元素の一時的な使用が必要かつやむを得ない場合
に限定され、手術室等において管理する必要のない患者に対して使用することは認められないこと。
また、「適切な防護措置及び汚染防止措置」の内容は、概ね次に掲げるとおりであること。
ア 使用時は、汚染検査に必要な放射線測定器を備え、使用後は、スミア法等の適切な方法を用いて、汚染の有無を確認すること。また、測定
結果は記録すること。
イ 使用時は、汚染除去に必要な器材及び薬剤を備えること。また、測定により汚染が確認された場合は、汚染除去等を行うこと。
ウ
手術室等で診療用放射性同位元素により汚染されるおそれのある場所の壁、床面は、気体及び液体が浸透しにくく、平滑で腐食しにくい構
造であること。
エ 他の患者が被ばくする放射線の線量が1週間につき100マイクロシーベルト以下になるような措置を講ずること。
オ
診療用放射性同位元素使用室を有すること。また、使用する診療用放射性同位元素の準備及び使用後の汚染物の処理は、診療用放射性同位
元素使用室で行うこと。
カ
手術室等において診療用放射性同位元素を使用する場合、放射線防護に関する専門知識を有する医師、歯科医師又は診療放射線技師等の中
から管理責任者を選任すること。また、手術室等における管理体制を明確にする組織図を作成すること。
(後略)
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